半導(dǎo)體材料是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的重要支撐產(chǎn)業(yè),按應(yīng)用環(huán)節(jié)劃分為晶圓制造材料和封裝材料。整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈主要包括IC的設(shè)計、晶圓制造以及封裝測試等環(huán)節(jié),半導(dǎo)體材料主要應(yīng)用在集成電路的制造和封裝測試等領(lǐng)域。集成電路的制造和封測對材料和裝備需求巨大。從材料角度看,涉及到大硅片光刻膠、掩膜版、特種氣體等原材料;從裝備角度看,涉及到光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、PVD、CVD等各種核心設(shè)備。而本文主要圍繞晶圓制造材料角度展開。
半導(dǎo)體材料市場概覽
集成電路生產(chǎn)需要用到包括硅基材、CMP拋光材料、高純試劑(用于顯影、清洗、剝離、刻蝕)、特種氣體、光刻膠、掩膜版、封裝材料等多種電子化學(xué)品材料。根據(jù)Prismark數(shù)據(jù),全球集成電路制造成本中,電子化學(xué)品占集成電路制造成本的比重約為20%。
集成電路晶圓制造流程:6個獨(dú)立的生產(chǎn)區(qū)構(gòu)成完整晶圓制造流程
(1)擴(kuò)散:進(jìn)行高溫工藝和薄膜淀積的區(qū)域,將硅片徹底清洗并進(jìn)行自然氧化;
(2)光刻:對硅片進(jìn)行預(yù)處理、涂膠、曝光、顯影,隨后清洗硅片再次烘干;
(3)蝕刻:用高純試劑(氫氟酸、鹽酸等)進(jìn)行刻蝕,保留設(shè)計好的圖案;
(4)離子注入:注入離子(磷、硼),高溫擴(kuò)散,形成集成器件;
(5)薄膜生長:進(jìn)行各個步驟當(dāng)中介質(zhì)層和金屬層的淀積;
(6)拋光:拋光材料打磨,并再次清洗插入電極等后續(xù)處理,進(jìn)行WAT測試。
晶圓制造材料在半導(dǎo)體制造流程中的應(yīng)用環(huán)節(jié)
全球半導(dǎo)體材料市場跟隨半導(dǎo)體市場呈周期波動。根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)顯示,2009-2011年,受半導(dǎo)體市場規(guī)模持續(xù)擴(kuò)張影響,全球半導(dǎo)體材料迎來快速增長,市場規(guī)模由346.4億美元提升至478.8億美元。2012-2017年,半導(dǎo)體材料市場進(jìn)入震蕩調(diào)整階段,市場規(guī)模維持在420-470億美元。2018年市場再次迎來爆發(fā),同比2017年提升50億市場規(guī)模。2019年,半導(dǎo)體材料市場維持穩(wěn)定,全球銷售額約為521.1億美元,其中晶圓制造材料約為328億美元,封裝材料約為192億美元。
2008-2019年全球半導(dǎo)體材料市場規(guī)模
而在過去幾年,中國半導(dǎo)體材料市場穩(wěn)步增長。
根據(jù)SEMI數(shù)據(jù),2009-2019年,中國半導(dǎo)體材料市場從32.6億美元提升至86.9億美元,年均復(fù)合增長率(CAGR)達(dá)到10%。整體來看,我國半導(dǎo)體材料的國產(chǎn)化率仍處于較低水平,進(jìn)口替代空間大。此外,隨著國內(nèi)晶圓廠的投資完成以及本土先進(jìn)制程推進(jìn),國內(nèi)半導(dǎo)體材料的市場有望持續(xù)增長,給本土材料廠商帶來較大的導(dǎo)入機(jī)會。
2008-2019年中國半導(dǎo)體材料市場規(guī)模(億美元)
從半導(dǎo)體材料市場的具體構(gòu)成來看,根據(jù)SEMI數(shù)據(jù),大硅片占比高達(dá)38%,電子特氣與掩膜版均占比13%位居次席,其余市場份額由光刻膠、靶材、CMP拋光材料等產(chǎn)品占據(jù)。
2018年全球半導(dǎo)體材料市場構(gòu)成
硅片:半導(dǎo)體材料市場的半壁江
如上圖所示,硅片是半導(dǎo)體材料中最重要的組成。而晶圓材料的發(fā)展歷程大致可分為三代:第一代為鍺、硅為代表;第二代主要是砷化鎵、磷化銦;第三代為氮化鎵、碳化硅等。目前大部分晶圓仍以硅為主要原料。硅晶圓的加工可分為硅提純、拉晶、晶棒測試、外徑研磨、切片等流程。
硅晶圓制造過程
硅晶圓為IC的基底,朝大尺寸方向發(fā)展。硅片主要使用在半導(dǎo)體集成電路中,用來制作硅晶圓當(dāng)成集成電路的基底。按照尺寸大小可分為6英寸、8英寸和12英寸,尺寸越大,加工難度也越大。由于集成電路的集成度越來越高,因此對大尺寸硅片的需求量越來越大。硅片總體需求和集成電路芯片需求高度一致。目前趨勢是6英寸硅片市場份額已經(jīng)較低,12英寸硅片市場需求強(qiáng)勁,全球范圍內(nèi)保持快速增長。
全球硅晶圓朝大尺寸方向發(fā)展
半導(dǎo)體硅片上游材料為電子級多晶硅,德國wacker、美國hemlock、日本丸紅株式會社等境外企業(yè)占據(jù)主要市場。國內(nèi)鑫華半導(dǎo)體、黃河水電已實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定量產(chǎn)電子級多晶硅,但產(chǎn)品多用于生產(chǎn)150-200mm(6英寸、8英寸)硅片,更大尺寸硅片的原材料仍主要依靠進(jìn)口。
半導(dǎo)體硅片下游是各類電子元器件。其中200mm(8英寸)及以下硅片終端應(yīng)用領(lǐng)域主要為移動通信、汽車電子、物聯(lián)網(wǎng)、工業(yè)電子等。300mm(12英寸)硅片需求主要來源于智能手機(jī)、計算機(jī)、云計算、人工智能、SSD(固態(tài)存儲硬盤)。
全球硅片出貨面積及單位價格走
半導(dǎo)體硅片市場景氣與電子工業(yè)需求深度綁定。2009年經(jīng)濟(jì)危機(jī)后硅片量價齊跌,2010年由于智能手機(jī)放量硅片量價增長有所反彈。2011年至2016年,全球經(jīng)濟(jì)乏力,硅片價格持續(xù)下跌,出貨量增長主要由硅片體積增加所致,市場規(guī)模略有下降。2017年后受益于下游計算機(jī)、移動通信、固態(tài)硬盤、工業(yè)電子的需求上漲,硅片市場實(shí)現(xiàn)量價齊升。
全球硅片市場巨頭壟斷,中國大陸地區(qū)廠商體量較小。
競爭格局方面,信越化學(xué)、住友勝高、世創(chuàng)、環(huán)球晶圓為全球四家主流供應(yīng)商,市場合計占比80%以上。中國大陸地區(qū)廠商以滬硅產(chǎn)業(yè)、中環(huán)股份為首,2018年滬硅產(chǎn)業(yè)占全球硅片市場2.18%,相比全球硅片巨頭體量尚小。
2018年全球半導(dǎo)體硅片競爭格局
國內(nèi)硅片廠商加速追趕,滬硅產(chǎn)業(yè)12寸硅片一馬當(dāng)先。目前國內(nèi)主要有滬硅產(chǎn)業(yè)、中環(huán)股份、超硅半導(dǎo)體、金瑞泓等企業(yè)進(jìn)入大硅片領(lǐng)域。
國內(nèi)硅片主要企業(yè)產(chǎn)品情況
它山之石:信越化學(xué)作為日本有機(jī)硅工業(yè)“國產(chǎn)技術(shù)”的典范,信越化學(xué)的成功離不開以下幾個方面的原因。
強(qiáng)大的研發(fā)力度和研發(fā)能力,信越化學(xué)共設(shè)有7家研發(fā)中心,是研發(fā)內(nèi)生增長的典范。信越化學(xué)通過自行生產(chǎn)金屬硅,保障了主原料的穩(wěn)定性,確立了從原料開始的一貫式生產(chǎn)體制。
國家的大力支持,日本政府在行業(yè)發(fā)展前期頗具戰(zhàn)略眼光,給予多種優(yōu)惠政策,通產(chǎn)省1989年制定了160億日元的“硅類高分子材料研究開發(fā)基本計劃”支持硅材料的研發(fā),這一計劃為以信越化學(xué)為首的有機(jī)硅生產(chǎn)企業(yè)提供了資金和技術(shù)的大力支持。
?光刻膠:高壁壘,機(jī)會大
光刻膠是利用化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行圖像轉(zhuǎn)移的媒體,將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)。光刻膠被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路的加工制作,是微細(xì)加工技術(shù)的關(guān)鍵性材料。在光刻工藝中,光刻膠被均勻涂布在硅片、玻璃和金屬等不同的襯底上,經(jīng)曝光、顯影和蝕刻等工序?qū)⒀谀ぐ嫔系膱D形轉(zhuǎn)移到薄膜上,形成與掩膜版完全對應(yīng)的幾何圖形。