據中科院微電子所官宣,由該中心牽頭承擔的重點研發計劃“高性能計算”重點專項--“基于高性能計算的集成電路電子設計自動化(EDA)平臺”項目,近日通過了項目綜合評價,這意味著一直困擾國產芯片自主研發的又一個重大技術阻礙取得了突破。
EDA對于芯片設計非常重要,因為如今的芯片非常復雜,芯片動輒都是百億晶體管,沒有EDA軟件,根本就無法設計芯片,而當前的EDA軟件則主要由外國企業壟斷。(
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據了解目前全球前三大EDA軟件企業分別是Cadence、Synopsys和Mentor,它們都是美國企業,占有EDA軟件市場七成的市場份額,在國內市場更是一度占有超過九成的市場份額,直到近年中國芯片行業認識到美國的所謂開放也是有限的才逐漸增加其他地區的EDA軟件采用率,同時加強EDA軟件研發。
國內芯片企業第一家受到EDA軟件斷供影響的是華為,華為作為國內最領先的芯片企業,開發的手機芯片居于全球領先地位,可與全球手機芯片老大高通比肩,它又開發出ARM架構服務器芯片并已獲得國內的中國電信和中國移動的采用,然而EDA軟件的斷供和芯片代工暫停,給它造成沉重打擊。
隨后哈爾濱工業大學、哈爾濱工程大學的師生也發現他們一直采用的EDA軟件--科學計算和仿真軟件 MATLAB 無法正常使用。實體企業、大學科研企業先后被斷供或限制使用美國的EDA軟件,這對我國的芯片產業造成了巨大影響。
面對這種境況,近兩年來,國內的產業鏈積極協作,不斷打通國產芯片的各個環節,這次中科院微電子所在EDA軟件方面取得突破,無疑解決芯片設計的一個重大環節,解決了EDA軟件的有無問題,未來將逐步縮短與外國企業的差距。
困擾芯片產業的還有芯片制造,由于EUV光刻機掌握在荷蘭ASML公司手里,而ASML公司因為眾所周知的原因至今未能給國內企業正常供應EUV光刻機,導致在7nm工藝研發方面遲遲無法突破,甚至DUV光刻機的供應也受到一定限制,導致國內芯片企業無奈之下只能選購二手DUV光刻機,這推動中國成為全球最大的光刻機買家,2021年的數據顯示中國大陸采購的光刻機價值高達290多億美元,超過韓國和中國臺灣。
為此國內的光刻機企業如上海微電子等設備企業積極研發光刻機,早前富士康就采購了數十臺上海微電子的光刻機,證明了國內在光刻機方面已取得巨大的進展,假以時日,相信中國必將研發出自己的EUV光刻機,打破瓶頸。(
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此外在光刻膠、芯片制造材料方面也在取得突破,可以說這兩年是中國芯片產業大發展的時期,海外企業的做法,促使國內的芯片產業鏈前所未有的緊密合作,共同推動國產芯片產業鏈加速突破,可能這兩年所取得的技術進展超過此前多年的發展。
中國芯片產業鏈的突破有力地增強了芯片自主研發的實力,可以相信隨著中國產業鏈的共同努力,國產芯片必將在未來有一天實現完全的自主研發,真正擺脫對海外的技術依賴,增強中國制造的產業安全。
來源:柏銘007