沉積工藝開發，新型光學鍍膜材料開發，沉積技術開發，以及設光學 鍍膜設計與建模。
1、子輔助沉積;
2、豐富的沉積設備硬件和軟件經驗，精通光學鍍膜設計軟件，熟悉實驗計(DOE)、 統計過程控制(SPC) 以及失效模式和影響分析(FMEA)；
3、在光學、薄膜或材料方面具有深厚的技術背景。
職位描述
公司介紹
天津科譜半導體有限公司注冊于天津濱海高新區，主要業務定位是有源光芯片的研發和制造，包括激光器發射芯片和光探測芯片等系列產品。具備完全自主的設計和生產能力。一期產線位于浙江平湖經開區，業已建設完成，凈化廠房面積1000平米，包括百級、千級凈化區域。
工作地點
浙江嘉興
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公司基本信息
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職位發布者
天津科譜技術有限公司
