光刻機(jī)的主要用途是制造芯片，是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的核心技術(shù)之一。具體來(lái)說(shuō)，光刻機(jī)利用類似照片沖印的技術(shù)，通過(guò)光掩模將精細(xì)圖形投影到硅片或其他基底上，形成所需的電路或結(jié)構(gòu)。這些電路或結(jié)構(gòu)是制造集成電路、微機(jī)電系統(tǒng)等微納米器件的關(guān)鍵步驟。

光刻機(jī)的性能和精度直接影響了微納米器件的質(zhì)量和產(chǎn)量，因此，它在半導(dǎo)體制造、光學(xué)元件制造、生物醫(yī)藥等行業(yè)中得到了廣泛的應(yīng)用。在半導(dǎo)體行業(yè)，光刻機(jī)可以制作出半導(dǎo)體芯片、平板顯示器等微型器件所需的微小圖案，這些器件廣泛應(yīng)用于電子產(chǎn)品、通訊設(shè)備等領(lǐng)域。

總的來(lái)說(shuō)，光刻機(jī)是現(xiàn)代高科技產(chǎn)業(yè)中不可或缺的重要設(shè)備，是推動(dòng)微電子技術(shù)和信息技術(shù)發(fā)展的關(guān)鍵因素之一。